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原子層沉積系統
 
化學氣相沉積系統
原子層沉積是化學氣相沉積技術的一種,其與CVD的差異在於ALD將傳統CVD的反應過程分成兩個部分的半反應,其一為前驅物的化學吸附飽和程序,另一為輪替的表面化學反應程序。前驅物和材料表面發生連續的、自限性的反應,薄膜分別通過和不同的前驅物進行反應緩慢沉積,將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面,形成單一層膜的沉積,因此ALD薄膜的成長是控制在單一原子層之厚度區間,形成階梯覆蓋與大面積均勻性之薄膜。 ALD  

化學氣相沉積是一種薄膜成長技術,基材暴露於一種或多種揮發性氣體中,在基板表面反應或分解以生成所需的薄膜沉積物,這種方法常用在真空環境中製造高質量與高性能的固體材料,因此,半導體產業使用此技術來成長薄膜。在典型的CVD中,將前驅物在室溫下進料到反應腔體中與加熱的基板接觸時,會發生反應或分解以形成薄膜並沉積在基材上。在此過程中,還會產生副產物,這些副產物可通過流經反應腔體的氣流除去,此製程溫度非常重要,會影響其化學反應。

CVD
數位式質量流量計與控制器
 
工業量測用熱式質量流量計
在各種流量應用中,人們真正的需求是流體的質量流量而不是體積流量,因為體積會受到工作環境壓力或溫度的變化而改變,本公司所提供的Smart-Trak 2質量流量計的測量是直接測量流體的質量,所以不需擔心因環境變化所帶來的誤差,而且此款質量流量計或控制器與轉子流量計、孔口板流量計和其他體積流量計不同的是其直接測量流過氣體的分子數量,因此可忽略溫度和壓力變化對氣體測量所造成的影響,並提供可靠、穩定、精確的測量方法。   Steel-Mass熱式質量流量計具備 Dry-Sensor專利技術,傳感器探頭為316不鏽鋼封裝,而且密封探頭由兩個RTD白金電阻式溫度感測器組成,包含速度傳感器及溫度傳感器,可以自動補償溫度及壓力變化產生的影響。此外,該傳感器探頭在密封和成型處理過程中,以及傳感器的成份與形體都不含有機成份,所以不會發生有機形變,因此在長時間使用後,儀表信號不會產生偏移,亦即具有優越的穩定性、重複性和精確度。
攜帶式超音波質量流量計
 
多參數渦流式質量流量計
Innova-Sonic攜帶式超音波質量流量計整合最新的流量數據分析處理技術、優良的電路設計與高精度的傳感器於一身,適用於任何液體流量的測量應用,並可提供高精度、高可靠度的流量測量。整台儀表的配置與資料分析套件都具備非常人性化的操作介面,包括:即時流量顯示、正向累積流量、反向累積流量、流速、日期、時間以及流量日報表,而圖形化的介面功能更能讓使用者直接觀察與分析流量趨勢。   Innova-Mass多參數渦流式質量流量計可量測氣體、液體與蒸汽等流體,分為240管道式與241插入式兩種型式,儀表本身無運轉部件,可使產品不易磨損,具備堅固耐用之特性,同時亦具備速度傳感器與溫度傳感器之設計與製造,以及內建流量計算裝置,所以能通過一個過程連接來同時測量五種過程參數,包含質量流量、溫度、壓力、密度、體積流量,而且此技術具有專利保護。
電子槍蒸鍍源
 
離子真空幫浦
電子槍提供電子束蒸鍍源,經常使用於光學鍍膜機或是生產高均勻度與高純度薄膜的應用製程。本公司的電子槍具備精簡的設計與便於維修的特性,使得該電子槍適用於幾乎所有的真空系統以及多變的真空應用,目前已廣泛使用於蒸鍍耐火材料、介電材料以及常見的導電性材料與半導體材料應用。本公司的電子槍不僅耐用可靠,而且操作簡單,也同樣適用於科學研究領域或是量產用機台設備。   離子幫浦為一種吸附幫浦,其工作原理是利用高壓讓氣體分子游離,並藉由電場的吸引撞入鈦板,經與鈦金屬板作用而埋入金屬板之內。由於這種吸附式的幫浦,其氣體是有進無出,且沒有直接與大氣環境接觸,所以屬於封閉型的幫浦,而且一旦鈦板埋入的氣體分子過多,便會失去效用。因此,離子幫浦都是用在超高真空環境下,而改良式的離子幫浦大都附有強而有力的磁鐵,其主要目的在於增長離子的運動距離,藉此增加與其他分子碰撞的機會,達到快速抽氣的目的。
 

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